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高溫漆用放射懷示蹤元素確定印化膜中新物質(zhì)的進(jìn)入——這些技術(shù)可測(cè)定進(jìn)行鈍化膜的合金元素（如CR）或破壞性離子（如C1）。鈍化性緩蝕劑的印化機(jī)理——傳統(tǒng)類型的鉻酸鹽緩蝕劑和原子時(shí)代的緩蝕劑（高锝酸鹽，由于其不可多得而尚待研究）的緩蝕機(jī)理都進(jìn)行了廣泛的研究。用橢圓測(cè)量術(shù)研究鈍性的破壞——用光學(xué)技術(shù)、橢圓術(shù)光譜和傳統(tǒng)橢圓測(cè)量技術(shù)可以原位觀察到氯離子在鈍性破壞階段進(jìn)入鈍化膜，這時(shí)點(diǎn)蝕初始發(fā)生階段結(jié)束。
高溫漆鈍性和鈍性破壞的“現(xiàn)在”。（1）儀器：用表面易感技術(shù)鑒定鈍化膜的特笥——X射線收光譜分析和表面分析技術(shù)（AES,XPS,SALL等）已廣泛應(yīng)用于測(cè)定鈍化膜的性質(zhì)，如成分、結(jié)構(gòu)和電子結(jié)構(gòu)。用電化學(xué)新技術(shù)測(cè)定鈍化膜性質(zhì)——改進(jìn)的交流電化學(xué)阻抗譜（EIS）已用于測(cè)定鈍化膜的阻抗特性（如電容）。鈍化膜的電子結(jié)構(gòu)也可利用光電化學(xué)譜進(jìn)行研究。
（2）材料：新材料的鈍化膜及其破裂——所研究的新材料有金屬玻璃、金屬/陶瓷和碳化化物/聚合物復(fù)合材料、新型合金和新型半導(dǎo)體。
（3）概念和理論：對(duì)鈍化膜的性質(zhì)、形成和破裂給出更基本的闡釋的新的理論上的概念已有非晶膜及其鈍性與破壞、滲透理論和合金鈍化、空位的形成與遷移、鈍化動(dòng)力學(xué)破裂。